產品詳情
簡單介紹：
真空晶圓退火爐是在真空環境下，對半導體晶圓進行高溫熱處理的設備，主要用于消除應力、優化材料結構、增加電學性能。
詳情介紹：
金屬高溫熱處理真空晶圓退火爐
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產品簡介真空晶圓退火爐是在真空環境下，對半導體晶圓進行高溫熱處理的設備，主要用于消除應力、優化材料結構、增加電學性能。華測儀器經過多年研發，推出了采用高準度、高反射率拋物面搭配高性能加熱源的解決方案，在升降溫過程中仍能保持穩定均勻的溫度場，可實現寬范圍均熱區、高速加熱與高速降溫。樣品由石英管保護，無氣氛污染，更適合半導體工藝使用設備的反射鏡采用高準度曲率設計，通過五軸加工系統制造，以維持更高的反射效率。反射鏡主要分為圓形和拋物線型兩種，可滿足不同材料在不同溫度控制條件下的測試需求
參數規格
產品尺寸：6寸晶圓或150 x 150mm產品
溫度范圍：RT~800/1200/1450°C
升溫速度：＜100℃/s可編程（此溫度不含載盤的升溫速度）
＜25℃/s（SiC載盤）
溫度均勻度：±5 °C（≤ 500 ℃）
±1 %（> 500 ℃）
公司介紹
Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd.
