去應(yīng)力熱處理紅外晶圓退火爐

高速加熱與降溫方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體降溫裝置，可實現(xiàn)快速冷卻
溫度高準(zhǔn)度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以準(zhǔn)確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，降溫速度和保持在不同溫度下可提供高準(zhǔn)度
不同環(huán)境下的加熱與降溫
加熱/降溫可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度性氣體 靜態(tài)或流動)操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳到加熱/降溫室
參數(shù)規(guī)格
產(chǎn)品尺寸：6寸晶圓或150 x 150mm產(chǎn)品
溫度范圍：RT~1450°C
升溫速度：＜100℃/s可編程（此溫度不含載盤的升溫速度）
＜25℃/s（SiC載盤）
溫度均勻度：±5 °C（≤ 500 ℃） 
±1 %（> 500 ℃）
溫度控制重復(fù)性：±1 °C
溫控方式：PID 溫控
公司介紹
Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd. is a national high-tech enterprise, reviated as Hua Ce Instrument.    It is a company engad in research and development, production and manufacturing.    The company has a functional materials electrical laboratory and an electrical insulation materials electrical laboratory.
The products involve material testing instruments, signal amplification and conditioning, data acquisition and control, comprehensive perｆormance evaluation of sensors, etc.